KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用於寬範圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現更佳的均勻性和離子流. 由於模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組並使設備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用於 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉濺射係統.
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數
型號
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
供電
DC magnetic confinement
- 電壓
40-200V VDC
- 陽極結構
模塊化
電源控制
eHL-30010A
配置
-
- 陰極中和器
Filamentless
- 離子束發散角度
> 45° (hwhm)
- 陽極
標準或 Grooved
- 底座
移動或快接法蘭
- 高度
10 cm
寬度
10 cm
- 長度
~ 100cm
-工藝氣體
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others
Model
eHL 200-3
eHL 200-5
Height (nominal)
2.9” (7.4cm)
2.9” (7.4cm)
Width (nominal)
3.3” (8.4cm)
3.3” (8.4cm)
Length (nominal)
Determined by number of modules & application
Determined by number of modules & application
Cathode/Neutralizer
Yes
Yes
Anode module
Yes
Yes
Filamentless
Yes
Yes
Orientation
Vertical / Horizontal
Vertical / Horizontal
Process gases
Inert, reactive, & organic
Inert, reactive, & organic
Power controller
eH Plasma Power Pack
eH Plasma Power Pack
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用於離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
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