| 產地 | qdchenlidianzi |
設備用途：
用於半導體器件燒結、焊接、烘幹、管殼氣密封裝等。
設備特點:
★ 本設備為氣氛保護爐，保護氣氛為氫氣、氮氣、氬氣等。
★ 設備具有連續工作性，保證生產效率。
★ 的氣幕簾與機械幕簾結合，確保爐膛與空氣隔絕。
★ 多溫區控制爐溫，方便調整工藝曲線。
★ 鏈帶速度無級連續可調。
★ 根據用戶要求可配加濕器。
設備主要技術指標
★帶寬： 90∼350 mm ★爐膛高度： 100∼200 mm
★爐膛寬度： 100∼370 mm ★冷卻段長： 1000∼3000 mm
★溫度範圍： 300∼1050℃ ★等溫區長： 600∼1500 mm
★控制精度： ±2℃ ★控制段數： 4∼10段
★帶速： 20∼500 mm/min ★升溫時間： 90∼240min
★升溫功率： 20∼120 KVA ★保護氣體： 3∼5路氮氣0∼100 l/min 一路氫氣0∼80 l/min